影響光氧催化處理效果的因素
低溫等離子體技術是近年發展起來的廢氣處理，低溫等離子體處理廢氣的原理為：
當外加電壓達到氣體的放電電壓時，氣體被擊穿，產生包括電子、各種離子、原子和自由基在內的混合體。低溫等離子體降解污染物是利用這些電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在的時間內發生分解，以達到降解污染物的目的。
低溫等離子體技術處理污染物的原理為：在外加電場的作用下，介質放電產生的大量電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發，然后便引發了一系列復雜的物理、化學反應，使復雜大分子污染物轉變為簡單小分子物質，或使物質轉變為或低毒低害物質，從而使污染物得以降解去除。因其電離后產生的電子平均能量在1eV～10eV，適當控制反應條件可以實現一般情況下難以實現或速度很慢的化學反應變得。
UV光氧催化設備適用于處理低濃度廢氣的排放。造成火災事故的主要原因是廢氣在管道中積聚，造成廢氣濃度過高。電路電氣失靈會產生火花引發大火和爆炸。因此，在開啟該設備之前，應提早開啟風機，管道內的廢氣有所降低再開啟設備，以災的發生。
等離子體引發事故的主要是由電場故障造成的電火花和高壓產生的電弧引發的。等離子體適用處理低濃度廢氣。此外，等離子體裝置的一極電阻部件應每月抽出一次進行的清洗，等離子體裝置的所有電極，看情況幾個月抽出一次進行清洗。
對于VOC處理，廢氣凈化設備自動化程度低，目前一般廢氣凈化技術采用的是UV光氧催化設備，該設備處理廢氣簡單、、凈化。因此該設備是中小企業廢氣處理的主選設備。
光氧催化設備主要由光解技術和催化氧化技術組合而成。催化氧化技術是在設備中添加納米級活性材料，在紫外光線的作用下，產生強烈的催化降解功能。由于作為催化劑的TIO2廉，來源廣泛，對紫外光吸收率較高，抗光腐蝕性北學穩定性和催化，且沒有毒性，對很多物有較強的吸附作用。
影響光氧催化處理效果的因素
1、廢氣濃度
光氧催化治理VOC主要適用于噴涂車間、印刷、電子、制藥、食品等行業產生的低濃度廢氣，隨著VOC濃度增加，光氧催化的效率也逐漸降低。因此單純的增加燈管的數量是無法解決氣體問題，紫外光解技術不適合中VOC氣體。
2、相對濕度
對于濕度條件下，氧氣吸收了大部分紫外光，但是隨著濕度的進一步增加，一部分是水蒸氣與氧氣競爭吸收紫外光，水蒸氣吸收了紫外光，同時產生羥基自由基。水蒸氣與活性氧反應生成羥基自由基，羥基自由基的氧化性要強于臭氧和活性氧，從而光解的速度明顯加快，廢氣處理效率提高。
3、風速和相對濕度差
風速越大，羥基自由基產生量的相對值也會越少。因此在風速小的情況下，羥基自由基對揮發性物VOC的貢獻大，風速大的情況下，羥基自由基對物降解的作用就會變得很小，風速還影響了廢氣停留的時間，一般停留時間增加，廢氣的效率有明顯增加。因為隨著停留時間的增加，紫外光和物碰撞次數增加。但是當超過10秒以后，廢氣的處理效率沒有明顯的變化，因此并不是停留的時間越長廢氣的處理效率越好。
